主题:xps :关于相对含量

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feixiong5134
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请教个问题,当你在做宽扫时候没有的元素峰,但是你知道里面一定含有.所以你做个窄扫,并且的确出现了,此时应该怎么做它和其他元素的相当含量?

  当时wuzl回答:只能在相同条件下做相对含量.

但是我在一篇文章上看见说双阳极交替使用,那样的话不是条件不同了,那更不是不能测相对含量了?论文的大致意思是说:通常我们选取双阳极中的一种X射线源MgKα或AlKα进行XPS分析。在合金CrZnSi表面XPS分析中,选用AlKα激发源时,Cr2p峰受到ZnLMM俄歇峰的干扰,而选用MgKα虽可排除俄歇峰对Cr2p峰的干扰,但C1s和N1s峰又会受到ZnLMM的干扰。在绝缘GaN粉末XPS分析中,同样有类似的问题困扰
。为了消除俄歇谱的干扰,提高分析质量,在合金CrZnSi表面和绝缘GaN粉末样品的XPS分析中,采用了交替使用Mg/Al双阳极,综合分析MgKα和AlKα的XPS谱,得到了很好的分析结果。

  这样的话那不是使用条件不同了?那怎么测相对含量啊?
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你把所有组份都做一遍窄扫描,用它们来定量。




您的意思是所有的元素都用窄扫的?还是用宽扫的时候能扫到的元素,加上宽扫时候看不见.但是窄扫的时候能看见的.把他们组合在一起?对了,请教您一下quantification table(跟做样的时候哪个表有区别,它一般是打印的时候用)是如何出来的?我从机子上面找不到啊!
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您的意思是所有的元素都用窄扫的?还是用宽扫的时候能扫到的元素,加上宽扫时候看不见.但是窄扫的时候能看见的.把他们组合在一起?对了,请教您一下quantification table(跟做样的时候哪个表有区别,它一般是打印的时候用)是如何出来的?我从机子上面找不到啊!

宽扫和窄扫条件不同,定量计算时没有可比性。要不然全用窄扫,要不然用宽扫计算。
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您的意思是所有的元素都用窄扫的?还是用宽扫的时候能扫到的元素,加上宽扫时候看不见.但是窄扫的时候能看见的.把他们组合在一起?对了,请教您一下quantification table(跟做样的时候哪个表有区别,它一般是打印的时候用)是如何出来的?我从机子上面找不到啊!

宽扫和窄扫条件不同,定量计算时没有可比性。要不然全用窄扫,要不然用宽扫计算。


那如果宽扫的时候扫不出来,只有在窄扫的时候扫出来.这个时候怎么确定他们的相对含量啊!
feixiong5134
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还有您给我推荐的您的文章:您说AL和Mg靶交替使用,那这个时候条件都不一样了,那这个时候怎么测相对含量啊!
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还有您给我推荐的您的文章:您说AL和Mg靶交替使用,那这个时候条件都不一样了,那这个时候怎么测相对含量啊!

那时没有测相对含量,只是测峰位了。
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还有您给我推荐的您的文章:您说AL和Mg靶交替使用,那这个时候条件都不一样了,那这个时候怎么测相对含量啊!

那时没有测相对含量,只是测峰位了。


那这个时候怎么测量相对含量啊?
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是这样的,那等我机子好了,我试试,谢谢.
  对了,您跟我的机子一样,那您那些俄歇数据的书是什么书?还有您平时看谁写的关于xps的书,我手边没有书,您能给推荐几本吗?
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