原文由 许之秦(xianshijiyi) 发表:负峰是是因为收集筒污染,点火之后会有较大的背景电流;当响应较小的物质进入检测器之后,由于其响应较小,降低了污染所导致的背景电流,因此会有负峰。楼主为啥要用氢氟酸洗……?氢氟酸清洗是早很多年流传的方法。当时用填充柱,硅氧烷固定相流失比较多,在fid里面燃烧后生成气相二氧化硅沉积到收集极上,用氢氟酸洗二氧化硅比较有效。不过现在都用毛细管柱,而且都是键合固定相,流失很少的,收集极沉积二氧化硅的情况很少出现了,所以不一定要用氢氟酸洗。一般收集极脏了要么是氧化生锈,要么是积碳,用稀硝酸洗应该就够了。不到万不得已,还是尽量不要用氢氟酸。