原文由 zwyu 发表:
按道理讲,所有的光源光谱理论上都应该服从黑体辐射定律,温度越高(对应电压/电流越大),它发出的光强就越大,最强波长点就会向短波部分走。前面图里的纵坐标是相对能量百分比,如果是绝对能量,你就会看到3000K的整条谱线都会比2800K的高。每家仪器公司的钨灯工作温度会有不同,但似乎不会大到峰值跑了几百nm的程度。所以你提到的两种仪器900~1100nm区间的不同,我想更可能是检测器的问题。不同的PMT的最强响应波长貌似是不一样的,一般用PMT的UV-Vis只做到900nm就好了,900~1100nm对其所用的检测器来讲,几乎看不到什么东西了。而硅光二极管对这个波长是可以轻松对付的,它可以做到更长的波长的。再往长波走,就是分光的那一套东西是主要限制了。
原文由 tutm 发表:
我认为zwyu和nemoium先生的分析很有道理。
anping先生测到的是仪器综合检测信号,而不是光源能量强度。这个信号强度与光线经过的每个部件光学特性有关。单看光源可能会造成错觉了。
钨灯(包括卤素灯)可以近似看作黑体辐射,它有公认的辐射图谱,但是对于具体的一个灯泡,可能个体之间也是有差异的。
原文由 anping 发表:
我上传的能量图谱的确是个综合能量图谱,这点倒没有搞错。我之所以困惑的是,既然钨灯在1000nm处的能量最强,为何光学系统(含:光栅、反射镜、光电倍增管)在900nm以后的反应却很弱呢?难道是因为入射光的波长对光电倍增管而言,由于波长变长了,而频率却变低了,所以光子被激发出来的个数少了之故?我想这个解释倒有些靠题吧?请大家给予讨论。
原文由 anping 发表:
我上传的能量图谱的确是个综合能量图谱,这点倒没有搞错。我之所以困惑的是,既然钨灯在1000nm处的能量最强,为何光学系统(含:光栅、反射镜、光电倍增管)在900nm以后的反应却很弱呢?难道是因为入射光的波长对光电倍增管而言,由于波长变长了,而频率却变低了,所以光子被激发出来的个数少了之故?我想这个解释倒有些靠题吧?请大家给予讨论。
原文由 anping 发表:
难道是因为入射光的波长对光电倍增管而言,由于波长变长了,而频率却变低了,所以光子被激发出来的个数少了之故?
原文由 nemoium 发表:
光波的波长λ= cT , 频率v = 1/T = c/λ,所以,波长长,频率是低的。
又光子的能量E = hv ,v 是频率,h是普朗克常数。
所以,随波长变长,v变小,光子的能量E变小,对于某些阴极材料,在某个波长,光子的能量不足以激发原子核外电子的电离。因此,虽然钨灯在1000nm时,光强最大(就是入射的1000nm的光子数最多),但到了PMT,可能是不能激发出电子的。
不过印象中,激发出PMT阴极的电子数目,跟入射的光子数(即光强)有关,跟入射频率(频率高只是光子能量高)无关,因为一般来说,单个光子激发单个电子,一个光子激发不出两个电子来。
所以,整个系统的响应f(λ) = f1(λ)*f2(λ)*f3(λ)*f4(λ)
所以f(λ)不一定在1000nm处取得最大值。
另,auto1235说的反光镜的数量,我觉得只是使最后入射到检测器的光能量大大的减弱了,但仪器光谱扫描得到的谱图形状是不变的,因为,每个谱图的形状,都是相对能量曲线。