原文由 maozuqing814(maozuqing814) 发表:原文由 liusy(liusy) 发表:
昨天,用pe7000dv 测量硅,硅的含量大概为2%,称0.1克样品。到100毫升,标准溶液为1,5,10ppm,测得数据五花八门,不稳定,是什么原因??急死人那
主要是你消解样品的问题,ICP做硅时曲线和QC都很好做的,样品的数据五花八门,就是你消解的问题,最好碱融,酸化后上机,酸溶的话,用HCL消解后加几毫升HF,就会澄清,根本就不用过滤,避免用玻璃器皿,注意空白。数据对于高含量的还可以。
原文由 chemistryren(chemistryren) 发表:原文由 maozuqing814(maozuqing814) 发表:原文由 liusy(liusy) 发表:
昨天,用pe7000dv 测量硅,硅的含量大概为2%,称0.1克样品。到100毫升,标准溶液为1,5,10ppm,测得数据五花八门,不稳定,是什么原因??急死人那
主要是你消解样品的问题,ICP做硅时曲线和QC都很好做的,样品的数据五花八门,就是你消解的问题,最好碱融,酸化后上机,酸溶的话,用HCL消解后加几毫升HF,就会澄清,根本就不用过滤,避免用玻璃器皿,注意空白。数据对于高含量的还可以。
测的就是硅,还加氢氟酸,硅不挥发跑掉了??
原文由 风之灵(风之灵) 发表:原文由 chemistryren(chemistryren) 发表:原文由 maozuqing814(maozuqing814) 发表:原文由 liusy(liusy) 发表:
昨天,用pe7000dv 测量硅,硅的含量大概为2%,称0.1克样品。到100毫升,标准溶液为1,5,10ppm,测得数据五花八门,不稳定,是什么原因??急死人那
主要是你消解样品的问题,ICP做硅时曲线和QC都很好做的,样品的数据五花八门,就是你消解的问题,最好碱融,酸化后上机,酸溶的话,用HCL消解后加几毫升HF,就会澄清,根本就不用过滤,避免用玻璃器皿,注意空白。数据对于高含量的还可以。
测的就是硅,还加氢氟酸,硅不挥发跑掉了??
低温溶解就不会跑的,铸铝中14%的硅的测定的化学法测试就是用HF溶样的,最好是用低温水浴加热,温度不要超过80度。