主题:请教:样品形态与谱峰偏移

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SeanWen
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前几天在做无铅锡块的分析,取了2个样,第一个样品比较疏松,表面不是狠光滑;另外一个样品表面很光滑。分析的时候第一个样品多处获取的Sn峰都发生偏移,而第二个样品却比较吻合。请各位发表一下看法,是不是样品的形态的影响?还是别的?谢谢~~

另外,对Sn的逃逸峰该如何处理?



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renxin
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原文由 SeanWen 发表:
前几天在做无铅锡块的分析,取了2个样,第一个样品比较疏松,表面不是狠光滑;另外一个样品表面很光滑。分析的时候第一个样品多处获取的Sn峰都发生偏移,而第二个样品却比较吻合。请各位发表一下看法,是不是样品的形态的影响?还是别的?谢谢~~

另外,对Sn的逃逸峰该如何处理?

能谱 是不能  准确检测  高形貌样本的, 原因是    X射线的遮挡和反射, 还有背散射电子的  多重散射等,  所以你的理解是正确的, 能谱的样本 有条件的话 最好机械抛光。
能谱不会有 SN的逃逸峰, 我见过  SI, AU 和 NI的。无法避免
SeanWen
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但是您看,第一个样品的Count Rate并没有比第二个低,还有第一个样品整体上还是比较平的,怎么说呢,就是它比较多孔吧。
renxin
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原文由 SeanWen 发表:
但是您看,第一个样品的Count Rate并没有比第二个低,还有第一个样品整体上还是比较平的,怎么说呢,就是它比较多孔吧。

具体参数看得不是很清楚, 计数没有损失, 就是说没有 遮挡。