主题：【讨论】如何对ARC/SPARK-OES,GD-OES及ICP-OES光源的稳定性进行评定？

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
在国外的文献上看到过另外一种方法，通过“fixation pairs”来监控
也就是选择两条谱线，其强度比会随着光源能量的改变而产生很大的变化，通常选择基体元素的一条原子线和另一条离子线，比如Fe 360.8nm和Fe 273.0nm
这种方法貌似更专业些，但在商品化的直读光谱仪中，我还没见过哪个厂家采用这样的方法来监控光源的稳定性。

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
在国外的文献上看到过另外一种方法，通过“fixation pairs”来监控
也就是选择两条谱线，其强度比会随着光源能量的改变而产生很大的变化，通常选择基体元素的一条原子线和另一条离子线，比如Fe 360.8nm和Fe 273.0nm
这种方法貌似更专业些，但在商品化的直读光谱仪中，我还没见过哪个厂家采用这样的方法来监控光源的稳定性。

你说的是ICP吧！

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
在国外的文献上看到过另外一种方法，通过“fixation pairs”来监控
也就是选择两条谱线，其强度比会随着光源能量的改变而产生很大的变化，通常选择基体元素的一条原子线和另一条离子线，比如Fe 360.8nm和Fe 273.0nm
这种方法貌似更专业些，但在商品化的直读光谱仪中，我还没见过哪个厂家采用这样的方法来监控光源的稳定性。

你说的是ICP吧！

那个资料上讲的是火花直读光谱仪
不过我个人觉得这种方法更适合用于CCD检测器的直读光谱仪，毕竟额外增加一个PMT用于监控，得不偿失啊
当然，这种方法应该也是可以应用于ICP的

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
在国外的文献上看到过另外一种方法，通过“fixation pairs”来监控
也就是选择两条谱线，其强度比会随着光源能量的改变而产生很大的变化，通常选择基体元素的一条原子线和另一条离子线，比如Fe 360.8nm和Fe 273.0nm
这种方法貌似更专业些，但在商品化的直读光谱仪中，我还没见过哪个厂家采用这样的方法来监控光源的稳定性。

你说的是ICP吧！

那个资料上讲的是火花直读光谱仪
不过我个人觉得这种方法更适合用于CCD检测器的直读光谱仪，毕竟额外增加一个PMT用于监控，得不偿失啊
当然，这种方法应该也是可以应用于ICP的

你有机会试试看！这种方法在CCD、CID和baird的仪器上就好实现了。主要用光强实验！！别用含量实验！应当带内标好。真实。我还没有深入理解。老头

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:

原文由 老头(shguan) 发表:

原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
在国外的文献上看到过另外一种方法，通过“fixation pairs”来监控
也就是选择两条谱线，其强度比会随着光源能量的改变而产生很大的变化，通常选择基体元素的一条原子线和另一条离子线，比如Fe 360.8nm和Fe 273.0nm
这种方法貌似更专业些，但在商品化的直读光谱仪中，我还没见过哪个厂家采用这样的方法来监控光源的稳定性。

你说的是ICP吧！

那个资料上讲的是火花直读光谱仪
不过我个人觉得这种方法更适合用于CCD检测器的直读光谱仪，毕竟额外增加一个PMT用于监控，得不偿失啊
当然，这种方法应该也是可以应用于ICP的

你有机会试试看！这种方法在CCD、CID和baird的仪器上就好实现了。主要用光强实验！！别用含量实验！应当带内标好。真实。我还没有深入理解。老头

目前我也不具备做这个实验的条件啊，要是能有台CCD仪器的话，做这个实验就方便多了

原文由 wccd(wccd) 发表:
老大很怀旧啊！