原文由 zhaoxiaozi(zhaoxiaozi) 发表:个人觉得不管如何扣背景,背景空白值高还是不好的。
1.仪器一般自带扣除背景的设备,石墨炉一般是氘灯或者塞曼,会自动扣除,好像没有背景有多大的说法,直接就仪器扣除了;
2.您这个空白的信号有点高了,一般空白在<0.01,空白高就要考虑酸、基改剂或者其他什么原因,建议挨个排查一下。再就是不同元素的实验条件也不一样,没有说什么元素,说那些条件有点空中楼阁的感觉;
3.基改剂的目的就是原子化更加充分,峰型变的更漂亮,加了基改剂之后情况变好很正常;
4.一般含量比较低的样品,测出来负值很正常,再就是您的空白有点高了,所以么... ...
以上只是我的看法,有异议请轻拍。
原文由Insm_a55a41b9(Insm_a55a41b9)发表:样品基体不复杂的话,没必要加基改的,加基改又不是百分之100的对结果有利,比如当你的基改自身背景就高时,只会适得其反,你不加基改测量试试,如果加标结果准确,是可以不加基改的原文由雨红星宇(Ins_073ace96)发表:我做Cd,加了磷酸二氢铵和硝酸镁基改后背景面积变得非常大,从0.几到1.2了,这是什么原因,你碰到过吗原文由zfx8380062(zfx8380062)发表:我们没用硝酸钯,用的磷酸二氢铵和硝酸镁。你的标准方法里面规定了基改品种和用量吗?没有的话可以试试我说的基改剂原文由 Insm_e5ea6d7b(Insm_e5ea6d7b) 发表:硝酸钯和硝酸铵各用3微升,或各用2微升。试试,能不能稍微降低标准空白嗯,我再尝试一下,我问了其他实验室的基体改进剂,硝酸钯的试剂空白都很高