主题:【已应助】ICP -MS的一点疑惑。

浏览 |回复8 电梯直达
rr丿
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各位老师新年好!请教各位老师两个问题。
1.ICP-MS 的锥接口,有的仪器采用锥+真空+锥,有的采用锥+锥+锥(三锥),有的采用锥+嵌片+锥,中间那一部分(即真空/锥/嵌片)主要起什么作用?
2.在去除中性粒子干扰方面,基本上是90度离轴或多次离轴。关于多次离轴,第一次离轴理论上就将中性粒子去除了,为什么还要二次,甚至三次离轴呢?
多谢各位赐教。
最佳答案:光哥回复于2020/02/03
1、不管是“采样锥+截取锥”还是“采样锥+截取锥+超截取锥”,采样锥和截取锥之间都会有一个一级真空,这个真空是直接连到机械泵上的,工作的时候这个区域的压力大约是几百帕(各家略有不同)。这里的真空,最直观的一个作用是提供“压力缓降”或者说“压力缓冲”的区域——在采样锥之前是大气压,截取锥/超截取锥之后如果真空阀门打开(例如工作时),那么里面是高真空。大气压1.0E+5和高真空1.0E-4~-5会差10E10,这种情况下如果直接从大气压怼到高真空的话,后面这块会受不了的。

2、理论上一次离轴足够了,但现行情况下,碰撞反应池几乎是标配,往里面通的碰撞气/反应气仍然是中性粒子。所以一般情况下会在碰撞反应池后面再做一次的离轴,以保证足够低的噪声。

大约是这样吧
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wangjstw
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首先觉得,您这个问题侧重于工作原理,或者说侧重于研发方面的考虑。仪器不管怎么设计,都是围绕检测目的展开的。你的锥和离轴两个问题都是如此。
咱们这个论坛,侧重于应用,也就是实验室检测,研发方面的人员不能说没有,但肯定是微乎其微的。我们所用的电感耦合等离子体质谱仪这个产品,从创制到市场化的产品,基本都在发达国家,虽说国产化工作也在启动,但我们的研发人员逛应用论坛的,肯定不会多。