主题:【已应助】关于“溶剂延迟”的问题

浏览0 回复13 电梯直达
HuangZhouQi
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原文由 symmacros(jimzhu) 发表:不管是否采用“溶剂延迟”,溶剂都要进离子源。 是的,会进入质谱系统。那差别是不是仅在于离子源灯丝是否打开,而且离子源的电压,温度都不变?是的那么在高温情况下,溶剂还是有可能在离子源中形成积碳,造成污染。 一般不会,溶剂沸点一般都比较低,很快就被真空抽走。
关键溶剂峰一般都是很大的,谱图不好看
tang566
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原文由 guten(v2683318) 发表:
那离子源温度在这一过程中会变化么?例如方法设置为230度。
离子源的温度不会变化,进入的量少。
symmacros
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原文由HuangZhouQi(Insp_ee2a0099)发表:
原文由 symmacros(jimzhu) 发表:不管是否采用“溶剂延迟”,溶剂都要进离子源。 是的,会进入质谱系统。那差别是不是仅在于离子源灯丝是否打开,而且离子源的电压,温度都不变?是的那么在高温情况下,溶剂还是有可能在离子源中形成积碳,造成污染。 一般不会,溶剂沸点一般都比较低,很快就被真空抽走。
关键溶剂峰一般都是很大的,谱图不好看
溶剂量大尽量延迟,峰型不好,适当改变条件,例如分流比,柱子等。
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