主题:【已应助】求助-硝酸、氢氟酸、双氧水在硅片检测中的相关问题

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Insm_7eafc8d7
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ICP-MS,在配制标液的时候都要加硝酸,能起稳定性的作用,请问一下它的工作原理是什么????

在做硅片表面金属检测时,回收液用氢氟酸和双氧水配制,氢氟酸是用来蚀刻硅片表面的氧化层,双氧水是用来做什么的,它的原理又是什么???????

      麻烦各位大大了!!!
最佳答案:光哥回复于2020/07/08
不是吧,你用的8900s,培训的时候没和你说过这些基础性东西??

自己做个试验立马知道:拿个超纯水,不加HNO3,看看里面金属离子,或者配个1/2/5ppt的金属离子溶液(不加硝酸),你可以发现信号值越测越低——超低浓度的金属离子会被器皿有所吸附的。HNO3环境中则会大大改善
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光哥
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不是吧,你用的8900s,培训的时候没和你说过这些基础性东西??

自己做个试验立马知道:拿个超纯水,不加HNO3,看看里面金属离子,或者配个1/2/5ppt的金属离子溶液(不加硝酸),你可以发现信号值越测越低——超低浓度的金属离子会被器皿有所吸附的。HNO3环境中则会大大改善
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
不是吧,你用的8900s,培训的时候没和你说过这些基础性东西??

自己做个试验立马知道:拿个超纯水,不加HNO3,看看里面金属离子,或者配个1/2/5ppt的金属离子溶液(不加硝酸),你可以发现信号值越测越低——超低浓度的金属离子会被器皿有所吸附的。HNO3环境中则会大大改善
我知道HNO3是增加溶液的稳定性,但是不明白它的原理