电子枪偏压方式种类不少,FEI:多极电子枪技术;日立:四偏压Quad Bias-function;日本电子:全自动无缝偏压;Tescan:中间镜技术等等:
这些方式的作用肯定是让出来的电子束性能更好,束流更大
但这些方式具体是怎么实现的,我很不明白 比如说,四偏压,难道指的是有四个电极,然后这四个电极分别加上不同的电压? 那么这四个电极是在condenser lens (压缩透镜或者聚集透镜)之前 还是 分布在整个SEM中?
多极电子枪技术是不是也差不多?
那无缝偏压又是个什么东西呢?
非常不解,请各位赐教!!!