X射线荧光光谱法(32)
6 样品制备-1
在XRF分析中,试样的制备要求较高,因为XRF分析基本上是一种相对分析法,要求将标样和被测试样制备成相似的,可以重现的状态,所以被制备的样品应具备下列条件:(1)试样有足够的代表性。(2)各个试样之间、试样与标样之间尽可能有一致的物理性质和近似的化学组成。(3)固体粉末的粒度和密度,块样表面的光洁度应有一个再现性好的表面。总之,要求制样手续简单、快速、成本低、重现性好,且尽可能减少制样引入的误差。
6.1 车削、切割、磨铣和抛光
金属试样及分布均匀的合金样品等,可用一般的机加工方法制成一定直径的金属圆片样品。如车床车制、飞轮切割等。如表面比较粗糙,通常再进行研磨抛光。但必须指出,抛光条纹会引起所谓的“屏蔽效应”,尤其对长波辐射线与磨痕垂直时,强度降低严重。为此,测量时应采取试样自转方式,消除试样取向影响。但屏蔽效应仍然存在,因此,要求试样磨痕大小一致,且和标准试样相似,以抵消影响。对于某些韧性的多相合金,要防止磨料颗粒的玷污。