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主题：【分享】微流控芯片光刻机优势及特色

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发表于：2019/09/25 11:00:01 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
微流控芯片光刻机专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面，全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料。
微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。
微流控芯片光刻机特色
可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。
是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。
具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。

微流控芯片光刻机
无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。
为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。
微流控芯片光刻机
微流控芯片光刻机：http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html
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