主题:请教:氩离子刻蚀后样品的荷电问题如何解决?

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scientific
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当绝缘样品经过长时间的氩离子轰击后,可能会导致样品表面累积大量的正电荷,荷电位移可以高达一百多电子伏特。
累积的正电荷会随时间逐渐转移走,荷电位移因此逐渐减少,但很长时间都不能够稳定。例如窄扫过程中扫第一个元素时位移50eV,扫最后一个元素时位移40eV。使得荷电校正非常困难。
请教你们在实践中是否曾经遇到这个问题?如何避免该问题的发生?
我们的离子枪型号时EX05。曾经尝试在样品表面覆盖金属网以提高样品的导电性,但是效果不明显。
推荐答案:chengxps回复于2005/12/09
补充答案:

feixiong5134回复于2005/12/09

不对吧!您枪的型号跟我们的一样!EX05啊!
我还以为您跟我们的一样呢!也可以调节电压.
看来我还是知道的少!

peem回复于2005/12/07

电子枪中和

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用电子枪中和了,电子束0.025mA,仍然很长时间不能够稳定。
feixiong5134
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你的问题我遇到过,有两个比较有效的方法:1)用双阳极,位移要小的多;2)在刻蚀动作后面,采谱前设定一定的等待时间,还加个flood gun控制
feixiong5134
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我觉得您说的不对,因为我就刻蚀的时候应该用什么枪问过工程师,他告诉我说;因为一般来说,刻蚀的面积小要比双阳极扫的面积小,所以可能你双阳极打出来的区域就没有刻蚀,一般来说还是用单色器.通过调节电压来降低荷电位移.
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原文由 feixiong5134 发表:
我觉得您说的不对,因为我就刻蚀的时候应该用什么枪问过工程师,他告诉我说;因为一般来说,刻蚀的面积小要比双阳极扫的面积小,所以可能你双阳极打出来的区域就没有刻蚀,一般来说还是用单色器.通过调节电压来降低荷电位移.

feixiong5134
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呵呵,您其实也不必用这两个表情的,其实您对xps懂的那么多,应该是我感到 ,只不过是这个问题我刚刚问了工程师.凑巧会的.以后还要向您学习
chengxps
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小兄弟,以前的XPS没有装备单色器,他们一样刻蚀的。] 明白啦吗?

原文由 feixiong5134 发表:
呵呵,您其实也不必用这两个表情的,其实您对xps懂的那么多,应该是我感到 ,只不过是这个问题我刚刚问了工程师.凑巧会的.以后还要向您学习 [/quote
feixiong5134
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不会的,大家都会考虑到这个问题的,刻蚀的面积大于x-ray束斑的面积,你想谁做也会 首先考虑这个问题。

原文由 feixiong5134 发表:
哦,是这样的,但是我觉得哪个可能有误差啊!
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