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主题：【已应助】求助CNKI文獻一篇

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hanc1202
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发表于：2011/06/02 14:12:20 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
【序号】：1
【作者】：张以忱  宋青竹 
【题名】：平板基片溅射镀膜的膜厚均匀性研究
【期刊】：《第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集》 2009年
【年、卷、期、起止页码】：
【全文链接】：http://cpfd.cnki.com.cn/Article/CPFDTOTAL-ZGZU200908002065.htm
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2011/6/2 14:18:31 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
平板基片溅射镀膜的膜厚均匀性研究
附件：
平板基片溅射镀膜的膜厚均匀性研究.pdf
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