主题:【已应助】求文獻2篇

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【序号】:1
【作者】:V.Bellido-Gonzalez  B.Daniel  D.Monaghan  J.Counsell 
【题名】:反应磁控溅射的均匀性控制
【期刊】:《薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会论文集》2009年
【年、卷、期、起止页码】: 2009

【全文链接】http://cpfd.cnki.com.cn/Article/CPFDTOTAL-GDKL200912001009.htm

【序号】:2
【作者】:郑泽勇  焦存柱  付雷  万光辉 
【题名】:反应溅射电压反馈智能控制的实现
【期刊】:《科技信息》
【年、卷、期、起止页码】: 2012年25期
【全文链接】http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-KJXX201225027.htm
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