主题:【原创】用ICP测试H2O2:H2SO4=1:3和NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5里面的金属,应该如何测试?这两种溶液里面的金属含量很低,接近检出限,不能将溶液稀释的。进一步,如果用ICP-OES检测H2SO4、磷酸、盐酸、HF里面的金属离子,这些试剂里面的金属含量也是很低的,只有零点几个PPB或者更低,都是与ICP的检出限接近的,不能稀释,应该如何处理?

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JOE HUI
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用ICP测试H2O2:H2SO4=1:3和NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5里面的金属,应该如何测试?这两种溶液里面的金属含量很低,接近检出限,不能将溶液稀释的。
进一步,如果用ICP-OES检测H2SO4、磷酸、盐酸、HF里面的金属离子,这些试剂里面的金属含量也是很低的,只有零点几个PPB或者更低,都是与ICP的检出限接近的,不能稀释,应该如何处理?
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Willdo
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氨、双氧水、盐酸、HF都可以蒸干后浓缩,高沸点的硫酸、磷酸估计只能灼烧后再浓缩了。
光哥
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清洗液啊?几百ppt的,已经是G3级别的试剂了

这就不是ICPOES能干的活,加钱上ICPMS吧
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2023/9/25 11:50:43 Last edit by xsh1234567
次元之暗面
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无机酸还可以亚沸浓缩再上,但是你测的是ppb级别,浓缩后也就是几个到几十ppb,那对蒸发环境要求比较高。
天似海的蓝
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天才小熊猫
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你这是半导体用的吧,有两个问题,一个是硫酸浓度太高,样品太粘稠,不稀释进样对锥的损伤比较大,半导体一般把98%硫酸稀释10倍做;另外就是ICPOES干不了这个活儿,检出限达不到要求的,直接上ICPMS吧
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