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artsulas
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发表于：2010/06/03 19:05:35 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
【序号】： 1
【作者】： Anchal Srivastava.
【题名】：Some Illumination on the Mechanism of SiO2 Etching in HF Solutions
【期刊】： J. Electrochem. Soc.
【年、卷、期、起止页码】：1983，Volume 130, Issue 3, pp. 708-712
【全文链接】：http://www.ecsdl.org/vsearch/servlet/VerityServlet?KEY=JESOAN&ONLINE=YES&smode=strresults&sort=rel&maxdisp=25&threshold=0&possible1zone=article&bool1=and&possible2=Some+Illumination+on+the+Mechanism&possible2zone=multi&OUTLOG=NO&viewabs=JESOAN&key=DISPLAY&docID=1&page=1&chapter=0

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2010/6/3 21:02:56 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
有这么巧，间接马甲？
http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20100603/2592076/
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2010/6/3 21:09:46 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
真崩溃，不是马甲，怎么这麽巧
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sioc2000
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2010/6/3 23:22:21 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
不是马甲，那我在这里也上传一个吧
附件：
Some Illumination on the Mechanism of SiO2 Etching in HF Solutions.pdf
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