没有在TECNAI的说明中找到这两种模式的具体区别,所以发帖上来请教大家。
我参考David Willimas的教材关于投射电镜的操作模式的说明,认为是这样的:
1.Microprobe中C1,C2处于正常的状态,C1应该是缩小灯丝像,C2一般是放大灯丝像,并且将第二次灯丝像(ps:这里认为C1所成的是一次灯丝像,为了表述方便我自己捏造的几个名词,请多包涵哈) 成在上物镜的前焦点,再经过上物镜后形成平行光束,从而使光束平行的照射到样品上。此时束斑直径相对较大。
1.Nanoprobe,这种模式下,C2的处于弱励磁状态(或者就是关闭????),C1成的像落在上物镜的物面上并且在样品面上(也是上物镜的像面)形成一个缩小更多的灯丝像。这种模式是不是一般是用在会聚束的情况下啊?
不知道自己的想法对不对,请各位高手多多指正哈,非常非常的感激了!