主题:【讨论】不导电样品表面经导电处理后的背散射电子像

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fengyonghe
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不导电样品表面经导电处理后其内部仍然是不导电的,表面荷电问题解决了,内部荷电问题仍然没有解决。这对背散射电子像和能谱分析会有怎样的影响呢?
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asahi42
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这个。。。我的感觉是,因为背散射电子是高能物质波,X射线是能量波,这两个波都很少受到荷电的影响,所以。。。关系不大。
小M
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内部荷电没有影响,表面荷电可能会有影响。表面荷电容易导致图像漂移,EDS测试点会变动,结果有影响,这是我的理解。
fengyonghe
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fengyonghe
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已经镀膜的不导电试样在高压电子的轰击下,注入试样内部的一次电子也不会有样品电流,结果是在样品内部逐渐积累负电荷,负电荷积累到一定程度就会产生与样品成分无关的背散射电子像。所以要想得到已经镀膜的不导电试样的背散射电子像,操作速度一定要快。这是我的看法,你怎么看?
fengyonghe
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另一半是孩子
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求高人解答,内部荷电到底对背散射电子相有没有影响
fengyonghe
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驰奔
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我注意过这个问题。
首先,“内部荷电问题”不存在。事实上,在作用区内是导电的,可以理解为绝缘体击穿。既然作用区导电,那么就看哪里可以和作用区导电连接,不一定非得要镀膜,例如非常薄的片子贴在导电的物体上,电子束可以击穿的话,片子不导电,照样看,而不存在表面荷电问题。

其次,镀膜对背散射或能谱分析影响。
      分为重金属膜和C膜。应该说C膜影响微乎其微。
      重金属膜影响较大。对背散射图像来说,降低平均原子序数反差,看起来灰度差别没有蒸C那么大,还是比较明显。


fengyonghe
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阁下分析得很好,基本上可以这样理解,有一点不明白,表面荷电不能通过击穿导电,而内部可以通过击穿导电,事实是这样只是不好理解。
驰奔
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原文由 fengyonghe(fengyonghe) 发表:
阁下分析得很好,基本上可以这样理解,有一点不明白,表面荷电不能通过击穿导电,而内部可以通过击穿导电,事实是这样只是不好理解。


导电的样品,不接地照样荷电。

低真空环境属于气体击穿导电,就把不导电样品表面电荷接地了。
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