原文由 大张(v2760291) 发表:
用正比的还是si-pin的比较多啊,我用si-pin的探测器不管怎么样计数率始终提不上去,用正比的会好些,但是正比的分辨率又不很理想啊
仪器是上照式还是下照式和用什么探测器没有关系.主要根据你仪器的设计需求来定的,记数率的大小与你所使用的光管功率,准直孔的大小,探测器的面积,探测器信号的成型时间和匹配的多道处理有关,
探测器类型:
1,计数管,分辨率不好,但是窗口面积大可以在几百mm^2,配置好的对应处理电路可以达到很高的记数率,一般在EDX里面用于贵金属测试和镀层测试都配密闭型的,记数率可达几万,在WDX里面比较常见,配流气的.记数率可达百万级别.
2,si-pin探测起,分辨率一般,窗口面积一般在6-30mm^2范围,多用于EDX的常规测试,一般不测试轻元素,范围在K-U,记数率一般在几千-几万左右.
3,SDD探测器, 分辨率好,窗口面积一般在6-30mm^2范围,多用于EDX的高端测试,可测试轻元素,范围在K-U,记数率一般在几万-几十万.如果窗口配聚脂膜的窗口的话.轻元素透过率增加,可以测试到F,由于其窗口比较容易破损和市场需求的关系,现在用的比较少.
本人对XRF有一定的了解,有应用需求,机器故障,或者是购买机器有疑惑的,学校或者科研机构做X荧光研究的,发信息给我共同交流,.大家一起学习,共同进步.