原文由 wsy18(wsy18) 发表:为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:超声清洗灰尘吗?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:哦,清洗油污的吧?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:硅片?做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:哇,功率这么大,做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 三人行(jncxyy2012) 发表:为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?
如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
我们以前都用1000w的。
清洗硅片。
晶体管、集成电路。
半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
如果有沾染在硅片上的话。
原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:超声清洗灰尘吗?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:哦,清洗油污的吧?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:硅片?做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:哇,功率这么大,做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 三人行(jncxyy2012) 发表:为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?
如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
我们以前都用1000w的。
清洗硅片。
晶体管、集成电路。
半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
如果有沾染在硅片上的话。
原文由wsy18发表:也就是一个标准化的操作流程了。原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:超声清洗灰尘吗?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由wsy18发表:哦,清洗油污的吧?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:硅片?做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:哇,功率这么大,做什么用的?原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 wsy18(wsy18) 发表:说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧原文由 御风飘逝(yuanrui82) 发表:原文由 三人行(jncxyy2012) 发表:为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?
如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
我们以前都用1000w的。
清洗硅片。
晶体管、集成电路。
半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
如果有沾染在硅片上的话。
一定要走的。