主题:【讨论】超声仪,对于试剂的混匀到底有多少贡献?

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御风飘逝
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原文由 三人行(jncxyy2012) 发表:

如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?


感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧


我们以前都用1000w的。
哇,功率这么大,做什么用的?


清洗硅片。
硅片?做什么用的?


晶体管、集成电路。
哦,清洗油污的吧?


半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
超声清洗灰尘吗?


如果有沾染在硅片上的话。
为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?
wsy18
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原文由 三人行(jncxyy2012) 发表:

如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?


感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧


我们以前都用1000w的。
哇,功率这么大,做什么用的?


清洗硅片。
硅片?做什么用的?


晶体管、集成电路。
哦,清洗油污的吧?


半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
超声清洗灰尘吗?


如果有沾染在硅片上的话。
为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?


一定要走的。
御风飘逝
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如果液体多,很难混匀,还需要人为混合。
为什么液体多的时候,超声就很难混匀呢?


感觉这个与仪器的功率有关,功率足够的话应该都行的。
说的是实验室常用的功率,一般以120W的居多。也有300W的吧


我们以前都用1000w的。
哇,功率这么大,做什么用的?


清洗硅片。
硅片?做什么用的?


晶体管、集成电路。
哦,清洗油污的吧?


半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。
超声清洗灰尘吗?


如果有沾染在硅片上的话。
为了以防万一,是不是一定要走这个流程啊?


一定要走的。
也就是一个标准化的操作流程了。
999youran
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ECHO007
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也就是一个标准化的操作流程了。


标准化流程,是经过数以千次的验证了。
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比沸腾厉害多了。
但是我并不认为会有多好的混匀效果。


什么设备的混匀效果好呢?
ECHO007
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半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。


对洁净度要求高啊。
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半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。


对洁净度要求高啊。


是啊,所以要在净化车间里生产。
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半导体生产的清洗要求比较高,一颗灰尘就可能损坏产品。


对洁净度要求高啊。


是啊,所以要在净化车间里生产。


在净化车间生产时,对洁净度有什么要求呢?
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