主题:【原创】氩离子抛光在材料领域的运用

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氩离子抛光原理
氩离子切割技术是一种利用宽离子束(〜1mm)来切割样品,以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域,有效的遮蔽了下半部分的离子束,创造出一个侧切割平面,去除样品表面的一层薄膜。

氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在 SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。针对不同的样品的硬度,设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口,控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样精准的参数,有利于制备成研究者理想的材料样品,这样的样品不仅表面光滑无损伤,而且还原材料内部的真实结构,正如页岩内部的细微孔隙在SEM下放大到10K时也能看得清清楚楚,以及材料内部的不同物质分层都能看的分界线明显。

另外,氩离子抛光设备中的离子枪部分是采用世界最先进的氩离子枪,聚焦离子束设计,并且保证无耗材,不仅能够大大节约了制样时间,而且还能够很好的节约后期的应用成本。

有些氩离子抛光机具备样品切割和抛光两项功能;
配温控液氮冷却台,去除热效应对样品的损伤,有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化;
配碳/铬镀膜,对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜,防止样品氧化,可以用于SEM/FIB导电镀膜样品制作。

氩离子抛光在材料制样的特出优点:
(1)对由硬材料和软材料组成的复合材料样品, 能够很精细地制作软硬接合部的截面, 而使用传统方法制样是很困难的。
(2)比FIB方法的抛光面积更大(~1mm以上)。

氩离子抛光机可以用于各种材料样品(除了液态)的制备,适应大多数材料类型,对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳
钢铁、地质、油页岩、 锂离子电池、光伏材料、 薄膜、半导体、EBSD、生物材料等包括平面抛光与截面抛光,

氩离子束抛光:
§适合各类样品
o软硬金属材料皆可
o同一样品含软硬不同材料
  o多孔材料
o湿或油性样品:油页岩
o有机物

氩离子束抛光:具体应用领域有:
• EBSD 样品
• 光伏、半导体
• 金属(氧化物, 合金)
• 陶瓷
• 地质样品,油页岩
• 高分子,聚合物
• CL

附图为氩离子抛光在材料领域的运用贡献














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