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原文由 驰奔(srd2009) 发表:
常用的离子溅射镀膜，热蒸发镀膜。常用的镀膜材料如楼上说的Au Pt C,
高分辨的靶材如Cr Ir。
根据所需要观测的分辨率和样品的性质来选择溅射离子源或者加热方式以及靶材。
最简单的是二级直流溅射，加速电压一般在500-3000v之间，可以有效对Au，pt等靶材进行溅射镀膜。靶材在离子轰击下，温度迅速升高到200°C以上，加速电压越高，温升越高。被溅射出的高温粒子可能对样品带来损伤，另外被加速的电子轰击样品也会造成热损伤，综合来看二级直流溅射对于容易引起热变形的样品，并不是很好的选择。
经过改进的冷二级直流溅射，通过引入简单的磁控装置，以及对靶材进行冷却，将样品表面温升控制在50摄氏度以内，可以适应大部分容易热变形的样品镀膜。
经过改进的带有磁控装置的直流溅射可以使用更高的加速电压，溅射Pt，获得更精细膜层，很大程度满足场发射扫描电镜高分辨镀膜需要。
氩气离子枪溅射，需要高真空环境，离子使用1-30kv加速电压加速轰击靶材如Cr，Ir等，可实现1nm分辨率观测的镀膜需要。价格也非常贵，听说得有二十多万人民币。
说完离子溅射再说热蒸发镀膜。
最简单的加热方式是电阻加热，钨丝篮，钼舟等难融金属作为载体。钨丝篮用于丝状靶材，钼舟用于粉体或颗粒靶材。
听说还有一种电弧加热，难融金属蒸发镀膜，没见过。
电子束加热比较复杂，造价高不少，对于难融金属如钨 、钽、钼热蒸发很有效，也是靶材使用效率最高的方法。热蒸发后沉积的靶材颗粒更加细小，也可热蒸发Cr或者Pt。
热蒸发共性是热损伤严重，对于容易热变形的样品，不宜采用。
另外都需要高真空，造价普遍较高。
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