主题:【求助】岛津峰图背景扣除问题

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Insm_312d4af3
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仪器GC-2010plus 色谱柱Rtx-wax 做苯系物(苯、甲苯、二甲苯),用的二硫化碳里面有苯系物杂质,想用扣背景的方式将溶剂中的苯系物(苯、甲苯、二甲苯)去掉,但是扣背景文件会将文件中的所有峰(包括溶剂峰)去掉,峰型不好或者干脆出现倒峰, 有什么办法能选择性地扣除背景文件中的制定峰吗?
选择性地扣除背景文件中的指定峰,就是不知道岛津的软件能不能实现这个功能
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岛津工程师01
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无法选择性扣除,如果这段时间不想出峰的话,可以使用这段时间不积分功能。
岛津工程师
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