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主题：【原创】GC-MS在洗了离子源后，溶剂空白出现了一个响应值为50000的峰，在切割一段色谱柱后，溶剂空白还有该峰，并响应值大了一倍，想问问这是什么原因

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发表于：2023/02/14 12:41:17 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
GC-MS在洗了离子源后，溶剂空白出现了一个响应值为50000的峰，在切割一段色谱柱后，溶剂空白还有该峰，并响应值大了一倍，想问问这是什么原因
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安平
byron1111
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2023/2/15 14:21:46 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
是升温时候出现的鬼峰吗？

建议做一下程序升温空白，如果仍旧存在此鬼峰，一般原因是进样口污染或者载气不良。

建议更换载气，如果不奏效，建议报修一下，让厂家处理进样口问题
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2023/2/16 10:00:57 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 安平(byron1111) 发表:是升温时候出现的鬼峰吗？建议做一下程序升温空白，如果仍旧存在此鬼峰，一般原因是进样口污染或者载气不良。建议更换载气，如果不奏效，建议报修一下，让厂家处理进样口问题
对，但是为什么在做标曲时低浓度时改鬼峰还在，但高浓度时鬼峰就没了呢
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安平
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2023/2/16 18:12:27 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 Ins_e8bd8e74(Ins_e8bd8e74) 发表:对，但是为什么在做标曲时低浓度时改鬼峰还在，但高浓度时鬼峰就没了呢
有图么？详细说说具体的情况为好。


程序升温空白分析，存在鬼峰吗？
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