主题：【已应助】内标异常升高问题

原文由 wc89(v2714609) 发表:

您把我搞蒙了！

原文由 wc89(v2714609) 发表:

因为我的理解是：HMI模式降低makeup气压，升高Dilution气压说白了，就是高基体Ar气稀释模式，和我用稀酸稀释本质上没什么区别，就没试。

因为我稀酸打是没有内标异常上升的！

目前项目周转，每天其实都有做样。也一直在用KED模式，理论上这个气也在不停的用。尽管这个用的很省。。。

原文由 wc89(v2714609) 发表:
我再更新下全扫的数据，对这个样品同体积稀释倍数下的半定量数据，短接三通，更换蠕动管后采集。

因为理论上说出现样品内标收率上升，一定是样品采集的时候采集到同质荷比才产生增加。

数据结果让我非常困惑，完全不知道哪里有问题。再下去变玄学了

原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:

我有十年 ICP-MS 使用、拆机维护 经验。我提到的疑点，只要你去排查，基本错不了。

但在你身上 就体现出：自说自话，固执己见—— 你不去试，你怎么知道？

原文由 wc89(v2714609) 发表:
唉......我的原意是想请教大侠帮忙的，而不是为了来咬文嚼字引战的。您说到的“He”气陈旧问题我们已经尝试了，就是把他拉到最大让他在那里待机，泵稀酸。我在前面的回复中已经说了......而且您提到的气也是工程师最早让我们尝试的！HMI模式和我说的有什么区别吗？关于这点我们也跟工程师确认了。您太高傲了，没有仔细看我回复的内容

另外内标几乎为“0”我表述的非常清楚，就没有内标朝里泵，而且三通还短接了。我就是想确认样品里有没有内标而已。。。。。。理论来说同质量数的增益应该是来自于基质，毕竟除了酸液+基质，样品溶液中没有其他东西了。我就是觉得奇怪这些增幅的东西到底来自哪里。当然这也只是理论！

可能最合理的解释是就是基质效应，就这样吧

原文由 ICPMS爱好者专用ID(Insm_eb33a07e) 发表:
内标回收率偏高是合理的，增敏效应。我们要看的是加标回收率而不是内标回收率

原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表: 加标回收率 也不能反映测试准确啊！假设 1% HCl 盐酸纯净无As，此时测出 10ppb ArCl=假象As信号加标 5ppb As元素，那还是测出    10ppb ArCl + 5ppb As = 总计15ppb加标回收率 （15-5）/10=100%

原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:（1）仪器待机时，是打开旁路阀 bypass，开启He吹扫。（2）仪器点火后，是标准模式（nogas）；（3）发送测试队后，才转为He模式（不开启 旁路阀 bypass）——你能看懂这三者的区别么？我有高傲的资历，谢谢！如果是基体效应，那么在你测试若干个样品后，把进样管插入到 纯水/稀硝酸/或者不同级别的标液时，那内标回收率应该降为 100%附近（因为这些溶液没有 药物有机质基体）