原文由 alexright 发表:
求助荧光分析氧化铝的分析方法。
我用融片法制样分析,用固定道的荧光仪测量时,稀比1:2的反而比1:4的强度还低,不知为何,请行家指教。
分析元素为二氧化硅(0.005左右)、氧化铁(0.005左右)氧化钠(0.35左右)。各元素强度都很低,烦恼中,请指教。
如果熔剂的杂质较高的话可以理解,可我用进口熔剂与国产熔剂均如此不解。
建议做空白。如此低含量的成分,测起来有些不放心。
另外,进行数据分析。
我也当心低含量的测定,空白也高了些,不知有何解决办法。另外不知如何进行数据分析。多谢