主题:【求助】荧光分析氧化铝

浏览0 回复14 电梯直达
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pglqwqz
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原文由 alexright 发表:

求助荧光分析氧化铝的分析方法。
我用融片法制样分析,用固定道的荧光仪测量时,稀比1:2的反而比1:4的强度还低,不知为何,请行家指教。
分析元素为二氧化硅(0.005左右)、氧化铁(0.005左右)氧化钠(0.35左右)。各元素强度都很低,烦恼中,请指教。
如果熔剂的杂质较高的话可以理解,可我用进口熔剂与国产熔剂均如此不解。

建议做空白。如此低含量的成分,测起来有些不放心。
另外,进行数据分析。


我也当心低含量的测定,空白也高了些,不知有何解决办法。另外不知如何进行数据分析。多谢
pglqwqz
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原文由 nameylf 发表:
原文由 pglqwqz 发表:
1、我做了3次均是如此。
2、1:2的强度:0.042  2.401    0.195
  1:4的强度:0.064  2.632    0.256


有些不解!可以提供数据的原始记录吗?三次测量的强度稳定性如何?


谢谢。因为不得而解,故原始记录难找。但强度还记有两次结果:
        SI              Fe              Na
第一次  0.042          2.401          0.195
第二次  0.041          2.386          0.201



缺水的海豚
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从理论上讲,你说的现象是不可能的!!但是样品含量比较低,荧光实际是测不太好的
huibingzhang
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你好
氧化铝我没做过,只能从理论上回复你的问题,不知能否对你有所帮助?
因为氧化铝本身是属于轻基体样品,散射背景就比较高,在熔样时,你加入的溶剂量越大,所得到散射背景就越高(因为散射背景随基体的平均原子量的减小而增大),元素的特征峰是叠加在背景上的,而且在你的样品中Si、Fe只有50ppm,Na只有3500ppm,对荧光来说也应该算是低的,况且Na、Si离基体元素都是比较近的,影响也比较大(从这个角度讲,对铁影响是比较小的),所以从表面看,稀释比越大(熔剂越多),总强度显的越大。我认为净强度还是应该下降的。
我建议:熔样时,只要样品的流动性足够好,就不要追求较大的稀释比,而且可能的话给Al的通道加衰减器,这样可能会好一些;如果还有问题,试一下标准加入法,熔样时定量加入Na、Si,这样可能计算稍微麻烦一点,称样时要求更准确,但灵敏度会提高一些。
还有,你可以试试压片法,因为氧化铝是“熟料”,矿物效应很小,但可以提高微量元素的强度。
但愿对你能有所帮助。
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