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主题：【讨论】有谁做过非金属材料的EBSD研究？？？

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hello_px
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发表于：2008/10/28 16:52:31 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
如题。我曾经试过陶瓷样品的EBSD，没有成功，主要是表面不导电，镀碳效果很不好。请问大家有这方面的经验吗，另用的是什么型号的电镜和EBSD探头，谢谢了先。
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2008/11/7 19:47:18 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我最近在做铝硅酸盐矿物的EBSD，效果还可以。关键步骤是最后一道抛光需要用SiO2溶胶抛光数小时。还有，导电碳膜厚度很讲究，镀1.5纳米比较合适。我们这里有两套EBSD系统，TSL-EDAX和HKL，扫描电镜分别为FEI DualBeam Nanolab 200和Philips XL30。
希望对你有所帮助。
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huangtao0307
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2008/11/12 11:46:35 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
兄弟你可以試一下噴金﹐
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zhuangj581
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2008/11/13 9:17:38 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 xfsummerwind 发表:
我最近在做铝硅酸盐矿物的EBSD，效果还可以。关键步骤是最后一道抛光需要用SiO2溶胶抛光数小时。还有，导电碳膜厚度很讲究，镀1.5纳米比较合适。我们这里有两套EBSD系统，TSL-EDAX和HKL，扫描电镜分别为FEI DualBeam Nanolab 200和Philips XL30。
希望对你有所帮助。

弱问一下 EBSD能做出晶体结构么 对样品有啥要求 必须要晶体么
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arevajzhwang
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2008/11/13 9:25:14 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 xfsummerwind 发表:
我最近在做铝硅酸盐矿物的EBSD，效果还可以。关键步骤是最后一道抛光需要用SiO2溶胶抛光数小时。还有，导电碳膜厚度很讲究，镀1.5纳米比较合适。我们这里有两套EBSD系统，TSL-EDAX和HKL，扫描电镜分别为FEI DualBeam Nanolab 200和Philips XL30。
希望对你有所帮助。


原先只是耳闻说做EBSD抛光很麻烦，以后有机会自己动手做做。
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golf
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2008/11/13 9:29:00 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
喷金更不行了 只能喷碳
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hello_px
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2008/11/20 14:48:40 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
有好些天没上这个论坛了，今天上来看到有这么多留言，非常感谢。

谢谢xfsummerwind提供的信息，抛光可能跟不同的材料有关，你说的SiO2溶胶好像最近Baeurer比较推崇；另镀C膜比较难掌握，你说1.5nm比较好，想问一下是否有个范围，另你们的镀膜仪是怎样控制厚度的，好像通常的C棒加热一般不太容易精确控制；另外你说的FEI DualBeam nano lab 200跟FEI Nova NanoSEM 200有什么区别吗，应该也是热场发射的吧。
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hello_px
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2008/11/20 14:52:53 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
如golf所说，喷金不行，因为金的信号可能会掩盖了样品的信号。
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hello_px
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2008/11/20 15:01:40 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
EBSD主要利用样品对电子的背散射衍射花样来确定样品的晶粒取向和分布，通常是已经知道了样品包含的相的种类，当然对未知结构也是可以分析出相的种类和分布的。对样品的要求就是要表面平整，否则得不到完整的表面信息。至于是否要求是晶体，我觉得如果是非晶的话，做EBSD应该是无意义的。

原文由 zhuangj581 发表:
原文由 xfsummerwind 发表:
我最近在做铝硅酸盐矿物的EBSD，效果还可以。关键步骤是最后一道抛光需要用SiO2溶胶抛光数小时。还有，导电碳膜厚度很讲究，镀1.5纳米比较合适。我们这里有两套EBSD系统，TSL-EDAX和HKL，扫描电镜分别为FEI DualBeam Nanolab 200和Philips XL30。
希望对你有所帮助。

弱问一下 EBSD能做出晶体结构么 对样品有啥要求 必须要晶体么
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xfsummerwind
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2008/12/10 16:19:32 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 hello_px 发表:
有好些天没上这个论坛了，今天上来看到有这么多留言，非常感谢。

谢谢xfsummerwind提供的信息，抛光可能跟不同的材料有关，你说的SiO2溶胶好像最近Baeurer比较推崇；另镀C膜比较难掌握，你说1.5nm比较好，想问一下是否有个范围，另你们的镀膜仪是怎样控制厚度的，好像通常的C棒加热一般不太容易精确控制；另外你说的FEI DualBeam nano lab 200跟FEI Nova NanoSEM 200有什么区别吗，应该也是热场发射的吧。


C膜的厚度确实不容易精确控制，最好不要超过2.5nm，多摸索几次就知道镀膜条件了。镀膜后不仔细看还以为没镀上，太厚了就明显变黑了。FEI DualBeam nano lab 200是场发射的，只不过同时配有聚焦离子束切割功能。这个仪器的好处是如果你抛光后做不出EBSD，可以用聚焦离子束精磨表面得到EBSD，效果还不错，但还是不如硅胶抛光效果好。
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broogood
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2009/3/23 13:26:09 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我也认为最后的SiO2悬浮液抛光最为关键。
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