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主题：【求助】(ok)100积分求一篇文章，JJAP上的review

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六脉神剑
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发表于：2008/12/18 14:25:31 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
重谢啊！


Developments of plasma etching technology for fabricating semiconductor devices

Author(s): Abe H (Abe, Haruhiko)1, Yoneda M (Yoneda, Masahiro)2, Fujlwara N (Fujlwara, Nobuo)2 
Source: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS    Volume: 47    Issue: 3    Pages: 1435-1455    Part: Part 1    Published: MAR 2008 
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2008/12/18 14:52:14 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
该帖子作者被版主 handsomeland加 1积分， 2经验，加分理由：helping
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六脉神剑
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2008/12/18 15:06:54 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢了
积分马上转账，呵呵!
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