电子束光刻技术![]()
Raith150光刻设备
电子束光刻技术是利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的技术。 电子抗蚀剂是一种对电子敏感的高分子聚合物。经过电子束扫描过的电子抗蚀剂发生分子链重组,使曝光图形部分的抗蚀剂发生化学性质改变。 经过显影和定影,获得高分辨率的抗蚀剂曝光图形。电子束光刻技术的主要工艺过程为涂胶、前烘、电子束曝光、显影和坚膜。现代的电子束光刻设备已经能够制作小于10nm的精细线条结构。 电子束光刻设备也是制作光学掩膜版的重要工具。![]()
产品标签: 电子束曝光系统 EBL系统 纳米图形发生器
一. 技术描述:为满足纳米级电子束曝光的要求,JC Nabity的NPGS系统设计了一个纳米图形发生器和数模转换电路,并采用PC机控制。PC机通过图形发生器和数模转换电路去驱动SEM等仪器的扫描线圈,从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过NPGS可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台,还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。
(一) 电子源(Electron Source)曝照所需电子束是由既有的SEM、STEM或FIB产生的电子束(离子束)提供。