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主题：【求助】测硅片和多晶硅表面的金属杂质含量用哪个型号的ICP合适？

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maoxia
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发表于：2010/03/15 11:58:33 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
大家好，我目前在一个生产单晶硅的企业上班，最近公司想买一台ICP-MS用作测试我司生产的硅片和我司用的原料多晶硅表面的金属杂质含量，请问各位高人，目前市面上比较成熟的ICP-MS，哪个型号的比较适合测试上述的产品呢？

另外，ICP-MS除了能测试金属含量，还能测试硅片中别的杂质元素的含量吗？

请各位高人指点，万分感谢！
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2010/3/15 16:30:36 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
看看以前的帖子吧，哪个型号多晶硅企业用的最多就是哪个吧，套用葛优的台词：“我相信群众!"
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nps
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2010/3/15 18:34:01 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
只要是成熟的ICP-MS对这方面的测试应该都没有问题吧？只是涉及到使用习惯以及仪器的具体性能参数上有所不同而已。
测定多晶硅表面金属杂质，SEMI MF1724-1104原文使用的是原子吸收法，我们在编制GB/T24582-2009的过程中使用的是7500cs ICP-MS，协助单位也有使用热电、PE的ICP-MS。
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2010/3/16 22:31:48 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
半导体中运用最多的应该就是7500CS,7700CS 以及DRC-ii了啊
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Tim
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2010/3/17 10:31:15 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
最好选择带有碰撞反应池的型号
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