主题:【求助】X荧光光谱仪排除干扰方法

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hsteel
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这种由矿物效应引起的偏差,如果非得采取压片法的话,最后用相似组成的样品建立工作曲线,最大限度的减小矿物效应的影响。
tyrantgqy
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斜率常数为负,会不会是SiO2的含量过高导致了干扰,做个共存元素校正,去除干扰,试试看
在不能保证样品中几乎全部元素都能被测得的前提下,不要用归一化,那样会放大误差的
相逢何必相识
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既然压片法存在这么多问题,为什么不改用熔片呢
你斜率常数为负,也可能是你曲线中某些标样有问题
用生产样来做标准样品绘制标准曲线
cearo
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原文由 相逢何必相识(32022) 发表:
既然压片法存在这么多问题,为什么不改用熔片呢
你斜率常数为负,也可能是你曲线中某些标样有问题
用生产样来做标准样品绘制标准曲线

因为样品比较多,所以才决定利用压片法进行,对于重要样品采用融片法。
我是利用我们公司生产的样品来进行配置标样的,可是Al和Si的相互干扰就是无法排除。
相逢何必相识
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原文由 cearo(cearo) 发表:
原文由 相逢何必相识(32022) 发表:
既然压片法存在这么多问题,为什么不改用熔片呢
你斜率常数为负,也可能是你曲线中某些标样有问题
用生产样来做标准样品绘制标准曲线

因为样品比较多,所以才决定利用压片法进行,对于重要样品采用融片法。
我是利用我们公司生产的样品来进行配置标样的,可是Al和Si的相互干扰就是无法排除。


你确定你所配置的标准样品含量是准确的么?
看到你前面所说你采用了归一化,试将归一化取消看Si和Al哪个含量是准确的,最后采用差减法求另一元素含量。
ljzllj
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WDXRF中,Al和Si使用PET晶体,是不可能有干扰的,除非你是分析纯铝中的痕量Si,耐火材料我做过,没有碰到过Al和Si的干扰,两者角度相距甚远。Al,144.713度,Si,109.028度,是不可能有干扰的。
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cearo
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原文由 ljzllj(ljzllj) 发表:
WDXRF中,Al和Si使用PET晶体,是不可能有干扰的,除非你是分析纯铝中的痕量Si,耐火材料我做过,没有碰到过Al和Si的干扰,两者角度相距甚远。Al,144.713度,Si,109.028度,是不可能有干扰的。

恩,最近我看了一些这方面的资料,也确实发现Al和Si不应该有干扰,估计是因为在配比过程中有些含量值不准确造成的。
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