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主题：【求助】Venus200 测定镍 镁 的灵敏度问题

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klj466242957
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发表于：2010/09/05 17:13:23 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
各位请帮忙
我用Venus200 minilab 测定镍精矿中的Mg Ni Cu Co Zn Pb As,.。 Mg Ni  的百分含量都大于5%，但0.2克样品加氧化剂和溶剂（6.8克）熔片测定时，镍只有10左右的KCPS, 镁的很低，只有不到1KCPS的计数强度，。非常郁闷，请高手告诉我做镁时的参数，包括crystal  等详细一点，请帮帮忙。另外请教如何用monitor K做校准，我是接手的旧仪器，没有monitorK的标准值。能详细一点我会万分感激的
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2010/9/5 21:01:25 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
按照你的比例，样品被稀释了35倍，如果Ni和Mg是5%的话，熔成玻璃片后含量大概是0.15%，Ni和Mg有这个的计数率也是正常的，即使是这个范围的计数率做曲线也是可以的。用小电压大电流可适当的增加强度。
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markon_yan
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2010/9/6 16:48:37 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
小电压大电流,,,不要用FILTER.或者在样品中适当的添加点高纯度的Ni和Mg氧化物或者其他.
至于MONITOR,只要以前他有做你就接着他的做就可以了.实在不放心你把他的更新下,很简单的.
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2010/9/6 21:18:56 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 markon_yan(markon_yan) 发表:
小电压大电流,,,不要用FILTER.或者在样品中适当的添加点高纯度的Ni和Mg氧化物或者其他.
至于MONITOR,只要以前他有做你就接着他的做就可以了.实在不放心你把他的更新下,很简单的.

不建议用添加Ni和Mg的氧化物来增加他们的强度，这样引入的误差会更大。
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klj466242957
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2010/9/7 14:11:22 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
venus200 minilab pw4120的电压是固定在50KV 4mA的，镁在这台机子上不能做calibrate angle，扫描时几乎看不出尖锐峰。我刚用这台机子，是否是配置问题导致无法测镁，检测器校正时用什么样品啊，万请帮忙。
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ljzllj
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2010/9/7 17:11:53 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
小小的建议：
1、Mg的强度不到1KCPS，建议检查背景，轻基体的背景可能就有这个程度的强度。
2、Mg本来就是产额低的元素，且又经制样过程中的稀释，导致实际所测的样片中Mg的含量大大降低，建议先查看本机的配置，看看有没有灵敏度更高的晶体，另外，选择粗一些的准直器，测量条件保证电流最大，然后相应调节电压。如尝试用25KV，8mA条件，若仪器最大电流只有4mA,那么就无能为力了。
该帖子作者被版主 juway加 4积分， 2经验，加分理由：好建议
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2010/9/7 18:15:26 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
对了，还有一点，积分时间放长一些，比如200秒，或者更长时间。
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