主题:【讨论】扫速对循环伏安图的影响

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tjx
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  我们用的德国zaher电化学工作站,扫循环伏安的时候,扫速小的时候图形的线不稳定,很抖,而扫速大时反而线圆滑,例如0.5mv/s就比1.0mv/s的线抖很多,当然氧化还原峰间距会小很多。这是什么原因,如何解决?
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原文由 tangjiaxiang87(tangjiaxiang87) 发表:
以前做的时候还挺好的,最近半年才出现的情况,


是不是有什么干扰啊?比如电磁波什么的?
做的时候 如果当时在打电话,测出的线就会有明显的波动
dahua1981
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