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主题：【求助】不同生产过程的二氧化硅红外光谱

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zhina0628
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发表于：2010/12/22 05:03:08 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
有大侠帮忙看看这组光谱不。。。化学方面实在不大通。。
图示从上到下为：热氧化，溅射，CVD-TEOS和CVD-Silan。层厚如图中所标
我想问的，主要是什么原因造成的这些层的吸收峰不同呢？谢谢~
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2010/12/22 20:10:42 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
应该他们的水分含量不一样吧，还可以看看3600附近的OH吸收情况
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ghcily
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2010/12/22 22:00:46 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 fyrebecca(fyrebecca) 发表:
应该他们的水分含量不一样吧，还可以看看3600附近的OH吸收情况


如何判定的呢？
楼主的这个图谱只是一部分。
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2010/12/26 19:37:02 Last edit by ghcily
手机版： 【求助】不同生产过程的二氧化硅红外光谱
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