liuxiuwei回复于2006/03/14
这个测试用ICP当然就能搞定了,荧光也可以搞定阿,样品处理都简单,主要看你要求的精度。Liuxiuwei1@sina.com
小石头回复于2006/08/06
另外AES(俄歇电子能谱,Auger)对轻元素灵敏,TOF-SIMS 的英文 time of flight-secondary ion mass spectrometer
feixiong5134回复于2006/03/12
每次听吴老师的一席话,胜读十年书啊!什么时候才能有您怎么渊博的知识啊!羡慕! .
chemwarrior回复于2006/03/27
谢谢
长见识了
原文由 mybobo 发表:
谢谢版主!我还想再问个问题,XPS是不是只能得到固体样品表面几个纳米深度的信息,我想测的元素可能是存在于样品表面几个纳米深度之下,这样还能测到吗?或者采用什么制样方法,可以避免溅射无用的表层。
原文由 feixiong5134 发表:
不用客气。你得短信我已经看到,其实我也才搞XPS几个月。WUZL斑竹才是高手。
我看 文章上面说XPS一般采样深度为几个纳米,如果用角分辨XPS可以到十几个纳米,用深度剖析可以达到几百个纳米。缺点时前者操作麻烦,后者Ar离子有还原里面得氧化物得可能。如果你是怕表面被污染,那可以直接用刻蚀掉表面,但是它也有还原里面得氧化物得可能。
谢谢feixiong5134的回答,对我很有帮助。不过还原氧化物是我不想发生的,那我有没有其他的办法,比如改变制样方法?我记得好像有人将样品制成粉末,各个成分混合均匀然后再制备成测试样,这样测表层就可以得到想要的信息了。不知道这样可行吗?
BTW,WUZL斑竹如果有空看到这个帖子能不能给做些指点啊,多谢了!