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主题：【已应助】急求三篇文献

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发表于：2012/02/10 11:34:51 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
悬赏金额：30积分 状态： 已解决
【序号】：1
【作者】：Jani Hämäläinen, Frans Munnik, Mikko Ritala, and Markku Leskelä

【题名】：Study on Atomic Layer Deposition of Amorphous Rhodium Oxide Thin Films

                                                       
【期刊】： J. Electrochem. Soc.,

【年、卷、期、起止页码】： Volume 156, Issue 10, pp. D418-D423 (2009)

【全文链接】http://scitation.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=JESOAN00015600001000D418000001&idtype=cvips&gifs=yes&ref=no



【序号】：2

【作者】：Thomas Waechtler,Steffen Oswald,Nina Roth, Alexander Jakob, Heinrich Lang,Ramona Ecke, Stefan E. Schulz,Thomas Gessner,Anastasia Moskvinova,Steffen Schulze, and Michael Hietschold

【题名】：Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2

                                                       
【期刊】： J. Electrochem. Soc.,

【年、卷、期、起止页码】：Volume 156, Issue 6, pp. H453-H459 (2009)

【全文链接】http://scitation.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=JESOAN00015600000600H453000001&idtype=cvips&gifs=yes&ref=no

【序号】：3
【作者】：G. Rupprechter, K. Hayek, L. Rendón, M. José-Yacamán

【题名】：Epitaxially grown model catalyst particles of platinum, rhodium, iridium, palladium and rhenium studied by electron microscopy

                                                       
【期刊】： Thin Solid Films

【年、卷、期、起止页码】： Volume 260, Issue 2, 15 May 1995, Pages 148–155

【全文链接】http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/0040609094064296
推荐答案：learner1999回复于2012/02/10
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hstudent回复于2012/02/10

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2012/2/10 12:05:56 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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2012/2/10 12:12:52 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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