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主题：【求助】如何解释应变扫描曲线

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jenifer05ll
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发表于：2013/01/30 16:00:13 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
请教各位老师，一般文献上看到的应变扫描曲线（横坐标为应变，纵坐标为模量）是先平后降的，如何解释这种现象？
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2013/2/1 17:02:33 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
应变扫描用于测试物质的线性粘弹区，当然并非所有物质都有线性粘弹区，所以你所描述的先平后降只能说是有可能是高分子所表现出来的现象。绝大多数的材料都是有结构的，例如桌子，衣服，鼠标，手机等等，当材料有特定的结构的时候，这种材料才具备有使用价值，而当超过材料所能承受的力或形变后，材料的结构将被破坏，导致材料失去使用意义。而应变扫描就是测试材料的极限形变的一个试验方法。施加一个逐渐增大的形变（应变）考察材料在什么位置能够结构被破坏，平的部分称为线性粘弹区（LVR），下降的部分称为非线性粘弹区。应变扫描只是针对有结构的材料，例如溶剂，小分子等无特定物理结构的物质，是测试不出线性粘弹区的。
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