主题:【已应助】求助7700S测试半导体材料中Cu元素的含量

浏览0 回复22 电梯直达
豆豆3252
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各位老师大家好:我用的是10%HF&5%H2O2测试SiO2中Cu离子的含量,用3种模式测试的结果相差较大,麻烦大家帮我看看哪种模式测试的准确。测试结果附上  ,谢谢
CuCuCu
636363
CoolNogasHE
00.0090.005
1.6440.0950.086
0.0010.0110.004
1.570.0320.022
0.0010.0630.004
0.9730.1080.038
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光哥
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豆豆3252
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
测试模式以下的那堆数据代表???这个好难猜的
老师,每行是测试同一种样品的测试结果,PPb 含量的
timstoicpms
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原文由 豆豆3252(v2868110) 发表:
各位老师大家好:我用的是10%HF&5%H2O2测试SiO2中Cu离子的含量,用3种模式测试的结果相差较大,麻烦大家帮我看看哪种模式测试的准确。测试结果附上  ,谢谢
CuCuCu
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CoolNogasHE
00.0090.005
1.6440.0950.086
0.0010.0110.004
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你到底是测 高纯HF、双氧水中的Cu杂质?还是用 HF H2O2去消解高纯SiO2,进而测硅的Cu杂质?
豆豆3252
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原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:
你到底是测 高纯HF、双氧水中的Cu杂质?还是用 HF H2O2去消解高纯SiO2,进而测硅的Cu杂质?
用 HF H2O2去消解高纯SiO2,测试溶液中Cu杂志的含量。
timstoicpms
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原文由 豆豆3252(v2868110) 发表:
用 HF H2O2去消解高纯SiO2,测试溶液中Cu杂志的含量。


你变脸 变得真快! http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20150304/5692067/
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原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:
你变脸 变得真快! http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20150304/5692067/
老师i我不太懂这个测试,用cool测试溶液没问题,但是用cool测试腐蚀后的溶液,cool与nogas和氦气差的好多。我们公司要测试腐蚀完氧化层的溶液。我就不知道用什么模式测了。
光哥
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所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有,单凭几个数据如何判断?

基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液,看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的?那就用H2模式吧
豆豆3252
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有,单凭几个数据如何判断?

基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液,看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的?那就用H2模式吧
老师,没有H2模式,能用氦气模式吗
豆豆3252
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有,单凭几个数据如何判断?

基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液,看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的?那就用H2模式吧
老师麻烦您帮我解释下酸挥发硅是什么意思呗,谢谢。
豆豆3252
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有,单凭几个数据如何判断?

基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液,看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的?那就用H2模式吧
老师麻烦您帮我解释下酸挥发硅是什么意思呗,谢谢。
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