昨天用石墨炉测钠,发现实测值(0.655Abs)与理论值(0.2Abs)相差甚远,且在清除(除残)阶段时,仍然存在较高的样品信号和背景信号。见下图:
那么这究竟是样品的问题还是石墨管本身的原因呢?
于是接着做了石墨管空测实验,也就是在原有的升温程序下不进样单走一个升温程序,看看石墨管的空测结果如何;升温程序和结果如下:
从上图可以看出,尽管事先已经对石墨管进行了多次空烧,但是石墨管的空白值仍然很高,远远大于0.008Abs的下限值;尤其是在清除阶段的空白值更高,这就引起了另一个怀疑点,那就是石墨管与光轴的同心圆的状态遭到了破坏。由于我使用的仪器是纵向加热的石墨炉,按理讲这种石墨炉最不容易产生石墨管在受热膨胀后与光轴发生了位移从而产生了一种空白值过高的假象。那么如何进一步来验证究竟是石墨炉本身的问题还是石墨管本身的问题呢?最简单的办法就是利用铜灯来检测石墨管的空测实验,因为一般石墨管的铜的空白干扰最小。升温条件不变,换上铜灯,空测结果如下:
从上图不难发现,在同样的石墨管和升温程序条件下,做铜的空白试验时其空白值很低 仅有0.0005Abs之多,且在清除阶段也没有因温度提高而造成的高空白值。这就进一步证实了,在测钠时的空白值高的结果就是石墨管材料本身存在有钠元素的干扰的原因,而不是石墨炉本身位移造成的。
这个检查过程看似简单,但却是用石墨炉分析时经常遇到的困惑和判断方法,希望能给
原吸操作的新手一点小小的帮助。
此外,近期
原吸版面稍显冷清,今写此小贴的初衷就是想让目前冷清的版面多一些温暖,仅此而已。