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主题：【已应助】安捷伦7900量测P元素含量

浏览0 回复28 电梯直达

Insm_fda1fab5

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发表于：2021/01/12 09:58:32 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

半导体行业，使用安捷伦7900，带有碰撞反应池（H2和He），想要监控无尘室环境中P的含量，做法是将晶圆放环境中一段时间，然后使用萃取液（HF+H2O2）萃取晶圆表面，收集后量测，目前有使用两种方法：1.热电浆模式下，碰撞反应池通了5ml/min的He，但P31的背景很高，线性基本是平的；2.冷电浆模式下，碰撞池不启用，量测PO，线性可以拉出，但是感度很低。

请教各位大神，是否还有其他的量测方式？或者做法中有哪些点不足？还请指点一二，感谢！

推荐答案：光哥回复于2021/01/13

有SiF=47。这个元素以前我做得也不少。
要么试试提高功率到800/900w同时通He，要么换成8900s，要不然最低点50ppt，单杆很难搞。
另外冷焰同时通氦气，你先试试，不一定是你想的没有感度了。建议专门针对47PO做一个调谐文件，手动调各个透镜参数，调的时候配个P单标，看P单标和DIW，让47PO和DIW中47达到最高信噪比。测试的时候单独调用这个调谐条件做P

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2021/1/12 16:54:21 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

热电浆、冷电浆，台企的？
7900上，也基本上就这两种方式了。你们是半导体之类的工厂吧，试剂与实验室条件应该都不错，怎么会背景很高？“线性基本是平的”---是在多高含量的线性范围。

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光哥

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2021/1/13 9:26:13 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

加钱8900s

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光哥

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2021/1/13 9:27:24 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

另外萃取液直接稀释或者不稀释上机，基体会比较大，不太适合冷焰

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Insm_fda1fab5

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2021/1/13 9:27:56 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 tuxlin(tuxlin) 发表:
热电浆、冷电浆，台企的？
7900上，也基本上就这两种方式了。你们是半导体之类的工厂吧，试剂与实验室条件应该都不错，怎么会背景很高？“线性基本是平的”---是在多高含量的线性范围。

是的，10级无尘室，试剂都是10ppt以下等级，拉线0.05ppb、0.1、0.5、1、2ppb，P31在热电浆下CPS值都是1000多，线性基本上是一条平的线，如果不是背景高的话，不应该各个点都在一个范围内吧，抑或P标准品易挥发吗？我是配的50ppb的标准品，防止有段时间了，使用HNO3作为基质配出来的，会不会由于有HNO3，NOH的干扰比较大导致的？

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