主题:【分享】和大家分享X射线荧光光谱仪小知识之二次靶 使用Rigaku NEX CGⅡ时才注意到的概念

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小披甲熊
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        最近接触到一款Rigaku的能量色散分析仪NEX CGⅡ,该分析仪介绍资料是这么写的,与传统的EDXRF光谱仪不同,NEX CG Ⅱ是一种间接激发系统,使用次级靶而不是滤光片。来自次级靶的单色和偏振激发大大提高了对水、碳氢化合物和生物材料等高散射基质中元素的检测极限。完全90°笛卡尔几何的二次靶激励消除了背景噪声。
      于是,我就开始研究什么叫做二次靶,也把这个小知识分享给大家:
相当于在X射线管与样品之间放置一个二次靶,利用光管连续辐射激发二次靶材的组成元素,从而产生选定靶材的特征辐射的单色光,利用此单色光可达到降低背景辐射、提高待测痕量元素的峰倍比和降低检出限的目的。采用二次靶技术要求光管的功率较大,靶材要有高韧致辐射输出,以便激发二次靶特征元素。二次靶可利用特征辐射份额较低的优势,再加上配备准直系统,能够有效避免光源的原级辐射照射样品的干扰信号进入检测器。
      所以,二次靶技术相当于对分析仪的检测性能做了一个提升,针对检测不同的元素选择不同的二次靶,从而降低检测背景同时提高了峰倍比,提高带检测元素的检测性能。可以说虽然是能量色散,但是很多元素的检测下线和波长以及单波长基本相当了。
      大家有什么问题,可以随时讨论,在这里等你!
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