主题:【资料】铜的抛光液

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yuyuyuyu
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抛光液化学组成为1%HN O3+1%B TA+0.2%H2O2较适宜.
研究了腐蚀介质硝酸、成膜剂苯并三唑、H2O2、磨粒g-A12O3的浓度、抛光压力及抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响,解释了各种因素的影响机理.
配方0.1%甲胺溶液+0.5%K3Fe(CN)6+5%Al2O3可行.
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