主题:【讨论】波长色散X荧光分析仪与能量色散X荧光分析仪

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金水楼台先得月
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原文由 291943731q(291943731q) 发表:
如今的电制冷小型SDD检测器分辨率可以到达132—140ev,Be窗膜厚度仅8微米。

以后还会提高,精度和准度肯定会超过波散的,WD-XRF几十年没有什么大的进步了,ED-xrf倒是突飞猛进,像全反射ed-xrf市场化产品已经LLD达到几十ppb,实验室设备检测线更低(实验环境影响)。


全反射的检测器分辨率达到多少?
金水楼台先得月
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原文由 zbb1982(zbb1982) 发表:
原文由 fsnightrain(fsnightrain) 发表:
对了!热电新的能量色散X荧光据说采用新型SiLi检测器,灵敏度有很大的提升,检测限更低,生命更长,能达到10年左右。不知道是否如宣传的这样,希望知情者不吝赐教!

Si-Li探测器的测试效果确实比SiPIN或者是SDD的都要好,但是有一个缺点就是环境温度要求比较高,一般的Si-PIN,SDD要求的环境在-40度,但是Si-Li的要求在-90度,用电制冷的方法比较难实现,一般使用液氮制冷,如果能用电制冷的话,以后将会是一个趋势了


现在电制冷的产品有哪些?
zbb1982
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原文由 金水楼台先得月(albert800922) 发表:
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对了!热电新的能量色散X荧光据说采用新型SiLi检测器,灵敏度有很大的提升,检测限更低,生命更长,能达到10年左右。不知道是否如宣传的这样,希望知情者不吝赐教!

Si-Li探测器的测试效果确实比SiPIN或者是SDD的都要好,但是有一个缺点就是环境温度要求比较高,一般的Si-PIN,SDD要求的环境在-40度,但是Si-Li的要求在-90度,用电制冷的方法比较难实现,一般使用液氮制冷,如果能用电制冷的话,以后将会是一个趋势了


现在电制冷的产品有哪些?

美国有AMPTEK,MOXTEK,德国有PNsensor,探头的制冷方式也分一级,二级,一般二级制冷比较稳定,比较容易实现产业化
zbb1982
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原文由 291943731q(291943731q) 发表:
如今的电制冷小型SDD检测器分辨率可以到达132—140ev,Be窗膜厚度仅8微米。

以后还会提高,精度和准度肯定会超过波散的,WD-XRF几十年没有什么大的进步了,ED-xrf倒是突飞猛进,像全反射ed-xrf市场化产品已经LLD达到几十ppb,实验室设备检测线更低(实验环境影响)。


楼主的这个设想估计比较难实现,能散想超过波散比较难的,能量色散的精度要靠电子元件本身的精度,温度的影响,电子噪音的影响,幅度的采集精度去保证,而波散主要是考机械运动控制精度和光学器件去保证,所以估计非常难。
老虎呦
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如今的电制冷小型SDD检测器分辨率可以到达132—140ev,Be窗膜厚度仅8微米。

以后还会提高,精度和准度肯定会超过波散的,WD-XRF几十年没有什么大的进步了,ED-xrf倒是突飞猛进,像全反射ed-xrf市场化产品已经LLD达到几十ppb,实验室设备检测线更低(实验环境影响)。


楼主的这个设想估计比较难实现,能散想超过波散比较难的,能量色散的精度要靠电子元件本身的精度,温度的影响,电子噪音的影响,幅度的采集精度去保证,而波散主要是考机械运动控制精度和光学器件去保证,所以估计非常难。


电子元件本身,温度精度,噪声这些会随着技术发展,这不是问题关键。保证波散的机械运动控制精度和光学器件还有多大的发展空间???波散发展的技术前景能否展望一下??
老虎呦
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如今的电制冷小型SDD检测器分辨率可以到达132—140ev,Be窗膜厚度仅8微米。

以后还会提高,精度和准度肯定会超过波散的,WD-XRF几十年没有什么大的进步了,ED-xrf倒是突飞猛进,像全反射ed-xrf市场化产品已经LLD达到几十ppb,实验室设备检测线更低(实验环境影响)。


全反射的检测器分辨率达到多少?


当然随着sdd检测器分辨率走呀。
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如今的电制冷小型SDD检测器分辨率可以到达132—140ev,Be窗膜厚度仅8微米。

以后还会提高,精度和准度肯定会超过波散的,WD-XRF几十年没有什么大的进步了,ED-xrf倒是突飞猛进,像全反射ed-xrf市场化产品已经LLD达到几十ppb,实验室设备检测线更低(实验环境影响)。


全反射的检测器分辨率达到多少?


当然随着sdd检测器分辨率走呀。


波散的分辨率主要不是靠探测器决定的,估计大多数人听了都感觉很惊讶,波散的测试原理是不同波长通过分光后出射到不同的角度,所以更大程度上是由分光晶体和光路的设计来决定的。波散的探测器更多的是用来做为一个记数器来用。所以他的电信号的处理比XRF的处理要相对简单很多。这也是我所说的,能散要超过波散比较难的原因,因为现在的光学器件的技术都可以做到很高了,但是由于XRF是直接对电信号的幅度进行分析,所以精度不可能比波散高。不过用全反射的话他的原理和通常的EDX XRF原理不一样,它是可以做到很底的,全反射是基于光学的折射,反射现象,由于全反射对样品的前处理要求比较高,也比较麻烦,而它测试的检出限又不比ICP,质谱等的实验室仪器好,所以应用比较窄,目前用得比较多的还是在半导体硅片中的杂质分析。
huanghaiyan0904
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谢谢

本人做德国Bruker的全反射X射线荧光光谱仪(TXRF),刚好学习对比下
18221083873
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2014/8/27 14:04:09 Last edit by huanghaiyan0904
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