我测试多晶硅基体金属杂质时样品Ni和Ti结果偏高,空白没有问题。
我当时怀疑是样品自己的数据偏高,或者有污染。所以又使用之前测测过的多晶硅再次检测,但是和上次检测结果做对比时发现Ni和Ti也是高,我这就明白可能是有污染了,所以我换消解的酸检测一次,换浸泡坩埚的酸一次,把通风橱里里外外重新打扫和把周围环境好好打扫一次,都没有改变结果。所以我只能听从建议更换使用的坩埚,神奇的是结果降了下来。
令人百思不得其解的是:实验中使用已经检测过的多晶硅再次检测,5个坩埚的其中两个作为空白检测Ni和Ti并没有问题,但是三个平行样Ni和Ti却偏高。所以我并没有怀疑到坩埚上面,但最终坩埚确是罪魁祸首。
所以我想请各位大佬分析一下原因,指导一下