主题:【已应助】关于湿法消解坩埚对样品结果的污染可能性分析

浏览0 回复19 电梯直达
乂上贞竺
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我测试多晶硅基体金属杂质时样品Ni和Ti结果偏高,空白没有问题。
我当时怀疑是样品自己的数据偏高,或者有污染。所以又使用之前测测过的多晶硅再次检测,但是和上次检测结果做对比时发现Ni和Ti也是高,我这就明白可能是有污染了,所以我换消解的酸检测一次,换浸泡坩埚的酸一次,把通风橱里里外外重新打扫和把周围环境好好打扫一次,都没有改变结果。所以我只能听从建议更换使用的坩埚,神奇的是结果降了下来。
令人百思不得其解的是:实验中使用已经检测过的多晶硅再次检测,5个坩埚的其中两个作为空白检测Ni和Ti并没有问题,但是三个平行样Ni和Ti却偏高。所以我并没有怀疑到坩埚上面,但最终坩埚确是罪魁祸首。
所以我想请各位大佬分析一下原因,指导一下
推荐答案:ztyzb回复于2022/12/28
可以通过空白的正交试验试试,新旧坩埚,新旧试剂,新老环境
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ztyzb
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楼主,根据您的描述我感觉有点巧,做空白的两个坩埚恰巧没污染,做样品的三个污染了,可以交换验证下。另外个人经验像这种坩埚污染一般引入的是随机误差,即偏差不会那么固定
deer
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光哥
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https://bbs.instrument.com.cn/topic/4843112 单杆还是串杆的ICPMS?
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
https://bbs.instrument.com.cn/topic/4843112 单杆还是串杆的ICPMS?
是PE家的串杆的NexION 2000,又什么关联吗
乂上贞竺
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原文由 deer(lujun710711) 发表:
空白与试样操作完全一致吗?坩埚是新的处理过?
操作确定完全一致,异常数据的坩埚没有新处理,排查污染源的时候换的浸泡的酸。
乂上贞竺
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原文由 ztyzb(zxz19900120) 发表:
楼主,根据您的描述我感觉有点巧,做空白的两个坩埚恰巧没污染,做样品的三个污染了,可以交换验证下。另外个人经验像这种坩埚污染一般引入的是随机误差,即偏差不会那么固定
您的建议我们也思考过,我们专门换了顺序做了一次,答案是污染还是存在,我们最后换了坩埚才解决
ztyzb
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原文由 乂上贞竺(Ins_8c342db7) 发表:
您的建议我们也思考过,我们专门换了顺序做了一次,答案是污染还是存在,我们最后换了坩埚才解决
,解决是最终目的。很多误差是多因素综合引入的
乂上贞竺
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原文由 ztyzb(zxz19900120) 发表:
,解决是最终目的。很多误差是多因素综合引入的
是滴,我纠结的没有排查出详细的污染原因,这让我很抓狂
ztyzb
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原文由 乂上贞竺(Ins_8c342db7) 发表:
是滴,我纠结的没有排查出详细的污染原因,这让我很抓狂
可以通过空白的正交试验试试,新旧坩埚,新旧试剂,新老环境
乂上贞竺
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原文由 ztyzb(zxz19900120) 发表:
可以通过空白的正交试验试试,新旧坩埚,新旧试剂,新老环境
谢谢指导
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