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主题：【求助】（已应助）工作需要，求助几篇文献（决不是病毒）

浏览0 回复9 电梯直达
zxr1231981
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发表于：2007/07/22 14:15:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
该帖子已被redanqi设置为精华；
求助的文献
各位大侠：
    你们好！因为工作需要，需要查阅几篇文献。但工作地方没有权限下，请帮忙。不胜感激。
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求助的文献
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2007/7/22 14:23:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你直接贴上来就成了
不要用附件上传的形式
这样还需要斑竹验证
耽搁你的需求速度
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醉卧古隆中
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2007/7/23 13:22:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
LP-MOCVD生长InGaAlP系统中源气流的动力学研究
Study on Dynamics of Gas Reactant Flux in LP-MOCVD Growth of InGaAlP
文尚胜，范广涵，廖常俊，刘颂豪
半导体光电，2000年 06期

LP-MOCVD生长InGaAlP系统中源气流的动力学研究
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LP-MOCVD生长InGaAlP系统中源气流的动力学研究
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2007/7/23 13:27:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
中国电子气体的现状及发展走向
The Present And Trend of Electronic Gases in China
孙福楠，韩美，陈晓惠，王秋娥，林刚，田波，梁玉
低温与特气，2004年 06期

中国电子气体的现状及发展走向
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2007/7/23 13:30:00 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
聚酰亚胺在氧基工作气体中的反应离子深度刻蚀研究
Deep Etching of Polyimide by O_2.based Reactive Ion Etching (RIE)
钱建国; 章吉良; 张明生; 郭晓芸; 毛海平; 倪智平
微细加工技术，2000年 03期

聚酰亚胺在氧基工作气体中的反应离子深度刻蚀研究
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2007/7/23 13:38:00 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
其他的找到了，但没有下载权限
或者在CNKI上根本找不到
我无能为力了



帮你贴出来，供大家帮助方便

2、MOCVD用MO源的发展概况和研究方法
作者：曾德辉等
期刊《低温与特气》1990年第1期

4、采用SF6+O2反应离子刻聚酰亚胺膜
作者：孙承龙
期刊《应用科学学报》Vol 11  No1

5、聚酰亚胺膜的反应离子刻蚀工艺研究
作者：孙承龙等
期刊《科技通讯（上海）》1992年NO 1

6、聚酰亚胺电容式湿度传感器的研制及改进
作者：曾欢欢等
期刊《中国机械工程》2005年Z1期

7、薄膜MCM-D中多层布线技术
作者：潘结斌
期刊《集成电路通讯》Vol 21 No3 10-13页
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Last edit by jzhiquan
lkgchina
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2007/7/23 14:10:00 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
都是人才呀
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cpu_lee
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2007/7/23 15:02:00 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
文献太老了。。。。
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hanxm
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2007/7/23 15:22:00 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
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zxr1231981
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2007/7/24 8:07:00 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢各位大侠了，以后我会直接贴上去的．不胜感激．
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