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主题：【求助】chi660b恒电位电镀

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xtun1hx
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发表于：2006/10/10 22:41:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
本人最近想用恒电位电沉积的方法沉积一种合金.基于电化学测试仪chi660b中的Amperometric i-t Curve可以实现恒电位沉积,采用三电极体系,设置参数有沉积电位,时间10min,sensitivity=0.005等,获得的沉积层非常好,比恒电流法好多了.但是有个奇怪现象,就是附带的软件记录的i-E曲线是一条横线,也就是说在恒电位下,随着沉积的进行,电流没有变化,令人不解.而且在同一电位下,随设置的sensitivity的不同,恒定电流也有所变化.请高人指点一下.
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2006/10/11 16:38:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
当然会这样的，楼主，你应该是对的。
首先，你第一次选取的灵敏度太高
０.005的话，i-E曲线基本上是一条直线，
但如果你选取的灵敏度低一点的话，比如２Ｅ－４的话，应该会出现电沉积过程中电流的变化，若灵敏度选择很高，当然，本来就很小的电流看上去就会是一条直线！
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loachfromsea
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2006/10/11 17:42:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
选取灵敏度是很重要的。 比实验电流稍高一点较好
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xtun1hx
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2006/10/11 19:22:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢楼上的两位提醒,不过本人还是弱弱的问一下,用电化学测试仪这种恒电位手段电镀的结果跟用单纯的恒电位仪的结果不会有偏差吧.在参数设置上不会有不同吧,谢谢指正.
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