主题:【求助】XPS图谱中污染元素的来源?

浏览0 回复8 电梯直达
可人
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我用离子束溅射制备的纳米薄膜,实验室确实没有用到F元素,而我的XPS图谱中,在结合能为688附近有个小峰,这个是不是F元素的峰啊?如果是他是从哪来的?如果不是,可能是什么的峰呢?请大家帮帮忙!
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iamu0
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可人
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谢了!你知道在做分峰时怎么扣除背底吗?高斯洛仑兹比怎么选择?最高结合能和最低结合能怎么选择啊?好多问题,呵呵,初学见笑了!
tnt3548639
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688一般来说应该就是F,这么有的只有你知道,那你的样品中有哪些元素,用的是什么靶,考虑一下是不是有可能是俄歇普?
可人
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我用的是钴靶和铝靶,元素中只能有硅和前面的两种元素,同时加入了氧气,形成氧化铝,氩气保护。但是却没有氩的峰啊,试验中根本没有氟的加入,
里面Al的峰在窄扫描时没有看到,他的峰强度远比F的高啊,不知道是什么原因啊
adomslion
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会不会是你的荷电效应太厉害了,把别的峰给移到这F的位置上来了啊?
可人
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要是这样的话,我就不太清楚了
我只是做了这个实验,要结果来解释实际的问题,而不是做XPS的专业人员,只能学到这里,在深我就不能理解了
可人
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要是这样的话,我就不太清楚了
我只是做了这个实验,要结果来解释实际的问题,而不是做XPS的专业人员,只能学到这里,在深我就不能理解了
iamjingyan
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