主题:【求助】求助分析氧中微量烃类分析色谱填充柱!!!!!

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czj1971
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哪位有能分析氧中微量烃类杂质的色谱填充柱的相关信息呀,
帮忙提供一下!!!!

要求:
检测限为PPM级别的,特别是乙炔要求检测到十分之一个PPM。
采用填充柱进行分析。
尽量不采用富集技术。
C1~C4烃类要在一根色谱柱中全部被分离出来。

如果有知道的朋友,麻烦给留信息。谢谢!!!!
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独钓寒江雪
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“检测限为PPM级别的,特别是乙炔要求检测到十分之一个PPM”这个主要是你检测器灵敏度的问题,分离比较常用的是gdx-502
manajames
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独钓寒江雪
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原文由 manajames 发表:
可以用FID配TDX


TDX检测C1、C2还可以,C3勉强C4就比较困难了
liujunbaozhang
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独钓寒江雪
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原文由 liujunbaozhang 发表:
我试过硅胶柱,FID检测器效果非常好。


这个也可以,用的也较多
KEN
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原文由 manajames 发表:
可以用FID配TDX

TDX柱上,C2及以上的组份很难出峰(保留时间太长)。
KEN
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原文由 czj1971 发表:
哪位有能分析氧中微量烃类杂质的色谱填充柱的相关信息呀,
帮忙提供一下!!!!

要求:
检测限为PPM级别的,特别是乙炔要求检测到十分之一个PPM。
采用填充柱进行分析。
尽量不采用富集技术。
C1~C4烃类要在一根色谱柱中全部被分离出来。

如果有知道的朋友,麻烦给留信息。谢谢!!!!

分析液氧时还需要考虑大量氧对色谱柱及检测器的影响。
如果样品中的氧不经过吸附处理掉,进样后可能会有一个比较大的基线波动(在氧气出峰的位置),可能影响到CH4的峰。
独钓寒江雪
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原文由 gzzdgx 发表:

分析液氧时还需要考虑大量氧对色谱柱及检测器的影响。
如果样品中的氧不经过吸附处理掉,进样后可能会有一个比较大的基线波动(在氧气出峰的位置),可能影响到CH4的峰。


这可能跟离子头有关,了解了一下不同的仪器氧的信号峰都不同,期待仪器高手给讲解一下这方面的知识
chengjingbao
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原文由 gzzdgx 发表:
原文由 czj1971 发表:
哪位有能分析氧中微量烃类杂质的色谱填充柱的相关信息呀,
帮忙提供一下!!!!

要求:
检测限为PPM级别的,特别是乙炔要求检测到十分之一个PPM。
采用填充柱进行分析。
尽量不采用富集技术。
C1~C4烃类要在一根色谱柱中全部被分离出来。

如果有知道的朋友,麻烦给留信息。谢谢!!!!

分析液氧时还需要考虑大量氧对色谱柱及检测器的影响。
如果样品中的氧不经过吸附处理掉,进样后可能会有一个比较大的基线波动(在氧气出峰的位置),可能影响到CH4的峰。


看到很多这样的说法,下面就我用的几种柱子分析液氧的效果来看。液氧不会对分析柱子产生氧化之类的影响,也不存在氧峰干扰。1、我没用反吹程序,就是单柱单分析,例如:大化所的6051#改性硅胶柱、分析C1~C4;PQ柱做CO、CO2
PLOT-Q做分析C1~C4。当然我还有其它的柱子。但是有反吹程序做液氧,所以我就不列啦。简单的分析,出现氧峰,有时主是跟检测器有关,这一点很重要。我前面列举的都是FID,自然没影响。
睿桐的老爸
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原文由 gzzdgx 发表:
原文由 manajames 发表:
可以用FID配TDX

TDX柱上,C2及以上的组份很难出峰(保留时间太长)。

控制一下条件出峰还是很快的,柱温给个80度试试
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